Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM

Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM

高反射率和低群延遲色散，以800 nm為中心的寬區(qū)域內(nèi)，具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。

產(chǎn)品介紹

Ø在以800 nm為中心的寬區(qū)域中具有高反射率和低群延遲色散

Ø硬質(zhì)介電體高反射或離子束濺射鍍膜

Ø激光損傷閾值> 50 mJ / cm2，50 fsec脈沖，800 nm典型值

EKSMA Optics提供720-880 nm鍍膜的寬帶低GDD超快激光反射鏡。這些超快反射鏡設計用于Ti：Sapphire激光器的一階諧波。

標準反射鏡具有高反射率（> 99％），并且為082-7288HHR物品（UV FS，Ø25.4x 6 mm）定了更高的反射率（> 99.8％）。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

產(chǎn)品型號

BK7

UVFS

規(guī)格：

基材：

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。