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簡要描述：Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設(shè)計的光機(jī)械適配器，其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機(jī)械支架840-0197。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2025-11-02訪 問 量：1395相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設(shè)計的光機(jī)械適配器，其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機(jī)械支架840-0197。
產(chǎn)品介紹
?將激光束分為兩束手動調(diào)節(jié)的強(qiáng)度比，以68°角分開
?大動態(tài)范圍
?透射光束偏移?0.5毫米
?高光學(xué)損傷閾值
?透射光束的衰減范圍：0.5％-95％
?反射光束的衰減范圍：5％-99.5％
該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設(shè)計的光機(jī)械適配器，其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機(jī)械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°偏振片適配器中，該偏振片在反射56°的S偏振光同時透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中。
可以通過旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強(qiáng)度比，而不會改變其他光束參數(shù)。可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對比度。
注意：實心基座高度擴(kuò)展器820-0210和標(biāo)準(zhǔn)桿820-0020-20應(yīng)單獨訂購。
產(chǎn)品型號
適用于Nd：YAG激光應(yīng)用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-355 | 355 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0071-532 | 532 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0071-1064 | 1064 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
飛秒應(yīng)用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-257 | 257 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-266 | 266 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-343 | 343 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400 | 400 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400B | 390-410 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515 | 515 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515B | 505-525 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800 | 800 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800B | 780-820 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030 | 1030 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030B | 1010-1050 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
適用于高功率飛秒激光應(yīng)用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-257H | 257 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-266H | 266 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-343H | 343 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400H | 400 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400HB | 390-410 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515H | 515 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515HB | 505-525 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800H | 800 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800HB | 780-820 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030H | 1030 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030HB | 1010-1050 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
適用于Nd：YAG激光應(yīng)用
通光孔徑 | 10 mm |
損害閾值 | 5 J/cm2 |
偏振對比 | >1:200 |
飛秒應(yīng)用
通光孔徑 | 10 mm |
損害閾值 大功率激光應(yīng)用： | >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
時間分散 | t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses |
偏振對比 | >1:200 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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